
HORIBA 納米顆粒分析儀
簡要描述:一臺簡潔小巧的裝置能同時實現(xiàn)對納米粒子三項參數的表征:粒徑、Zeta電位和分子量。納米技術的研發(fā)是一個持續(xù)不斷的過程,在分子和原子水平上控制物質以獲得新、好、先進的材料和產品。為了得到效率高性能好的產品,并減少能量的消耗,HORIBA 推出了SZ-100V2納米顆粒分析儀。此儀器通過簡單操作即可對納米顆粒進行多參數分析!以技術簡單而精確地呈現(xiàn)納米粒子尺寸及分散體系的穩(wěn)定性,為您開啟納米科技前進之
產品型號:SZ-100V2
廠商性質:生產廠家
更新時間:2025-06-04
訪 問 量:52
HORIBA SZ-100V2納米顆粒分析儀
HORIBA SZ-100V2納米顆粒分析儀產品介紹:
一臺簡潔小巧的裝置能同時實現(xiàn)對納米粒子三項參數的表征:粒徑、Zeta電位和分子量。
納米技術的研發(fā)是一個持續(xù)不斷的過程,在分子和原子水平上控制物質以獲得新、好、先進的材料和產品。為了得到效率高性能好的產品,并減少能量的消耗,HORIBA 推出了SZ-100V2納米顆粒分析儀。此儀器通過簡單操作即可對納米顆粒進行多參數分析!以技術簡單而精確地呈現(xiàn)納米粒子尺寸及分散體系的穩(wěn)定性,為您開啟納米科技前進之門!
HORIBA SZ-100V2納米顆粒分析儀產品特點:
粒徑測量范圍 0.3nm ~ 10μm
SZ-100V2系列采用動態(tài)光散射原理(DLS)測量粒徑大小及分布,實現(xiàn)了超寬濃度范圍的樣品測量,不論濃度是ppm級還是高達百分之幾十,均可準確測量??墒褂檬惺蹣悠烦亍y量微量樣品也極為方便。
Zeta電位測量范圍 ?500 ~ +500mV
使用HORIBA的微量樣品池,樣品量僅需100 μL。通過Zeta電位值可以預測及控制分散體系的穩(wěn)定性。Zeta電位越高意味著分散體系越穩(wěn)定,對于配方研究工作意義重大。
分子測量范圍 1×103 ~ 2×107
通過測量不同濃度樣品的靜態(tài)散射強度并通過德拜記點法計算絕對分子質量(Mw)和第二維利系數(A2)。
HORIBA SZ-100V2納米顆粒分析超高的智能化和學習能力可以快速為您確定納米粒子的特性!
SZ-100V2系列可測量的樣品濃度范圍很廣,所以幾乎無需對樣品進行稀釋和其他處理。雙光路系統(tǒng)(90°和173°)設計,既能對高濃度樣品進行測量,如釉漿和顏料,也能測量低濃度樣品,如蛋白質和聚合物。
將表征納米粒子的三大參數的測量融于一體:粒子直徑、Zeta電位和分子量。
HORIBA開發(fā)的一次性Zeta電位測量樣品池可杜絕樣品污染。專用超微量樣品池(最小容量100 μL)簡單易用,且適合分析稀釋的樣品。
HORIBA研發(fā)的Zeta電位專用石墨電極,可用于測量強腐蝕性的高鹽樣品。
HORIBA SZ-100V2納米顆粒分析儀測量原理:
粒徑測量原理
HORIBA SZ-100V2納米顆粒分析儀采用動態(tài)光散射技術測量粒徑,通過測量粒子的散射光強度隨時間的波動。納米粒子的布朗運動引起光強的波動,對其進行統(tǒng)計分析可與粒子的擴散相聯(lián)系。由于布朗運動的激烈程度與粒徑大小顯著相關,從而可以建立粒徑與散射光強度波動的關系。
Zeta電位測量原理(激光多普勒電泳法)
處于懸浮液中的納米粒子和膠體粒子大多表面帶有電荷。當電場作用于液體時,帶電粒子將會在電場的影響下運動。運動的方向及速度與粒子的帶電量、分散介質和電場強度有關。通過觀察散射光的多普勒頻移從而測量粒子的運動速度。粒子的運動速度與粒子剪切面上的電位( 即Zeta 電位) 成正比,因此可以通過測量粒子在電場作用下的運動而得到粒子的Zeta 電位。
分子量測量原理
HORIBA SZ-100V2納米顆粒分析儀采用兩種方法來測量大分子如聚合物、蛋白質和淀粉等的分子量。第一種方法采用動態(tài)光散射得到的粒徑信息和Mark Houwink 方程。第二種方法是德拜記點法。
HORIBA SZ-100V2納米顆粒分析儀主要應用:
半導體: | CMP漿料 |
功能納米材料: | 碳納米管 |
先進碳材料 | |
納米纖維素 | |
顏料、油墨: | 顏料、燃料 |
墨粉懸浮液 | |
能源: | 電池材料 |
HORIBA SZ-100V2納米顆粒分析儀附件選項:
樣品池
一次性樣品池 | 半微量池 | 玻璃池 | 一次性半微量池 | 樣品池(帶蓋) |
微量池(僅側面檢測) | 亞微量池 | 流動池 | Zeta電位塑料池 | Zeta電位玻璃池 |
自動滴定儀
可以用于Zeta電位或粒徑測量過程中的pH值的自動滴定,是等電點測量的理想選擇。
HORIBA SZ-100V2納米顆粒分析儀產品參數:
測量原理 | 粒徑測量原理:動態(tài)光散射法 分子量測量原理:德拜記點法(靜態(tài)光散射法) |
測量范圍 | 粒徑:0.3nm到10µm 分子量: 1000到2 x 107 Da(德拜記點法) 540 到 2 x 107 Da(MHS 公式) |
最大樣品濃度 | 40 wt% |
測量角度 | 90°和173° |
更多參數可聯(lián)系我們獲取 |
HORIBA SZ-100V2納米顆粒分析儀測量案例:
生物材料:膠體金顆粒粒徑測量結果
膠體金(NIST) | RM8011 | RM8012 | RM8013 |
公稱直徑(nm) | 10 | 30 | 60 |
DLS法測量得到的NIST直徑(nm) | 13.5 | 26.5 | 55.3 |
SZ-100測量得到的直徑(nm) | 11.0 | 26.6 | 55.4 |